OPall GLFPF3000VMF4É um conjunto de filtro de gás em linha de altíssima pureza, projetado especificamente para filtragem no ponto de uso em linhas de gás de processo para semicondutores e microeletrônica. Possui uma carcaça em aço inoxidável 316L eletropolido com um acabamento de superfície interna superior para evitar o desprendimento de partículas. Internamente, abriga um elemento filtrante totalmente em fluoropolímero que oferece excepcional compatibilidade química com gases especiais inertes, tóxicos e altamente corrosivos.

u Especificações elétricas: 0 A / 0 V

u Pressão máxima de operação: 20,7 MPa a 121 °C

u Temperatura máxima de operação: 121 °C (250 °F)

u Perfis de desgaseificação:

u Conexão: 1/4" VCR (Vedação com junta)

❖ Fabricação de wafers semicondutores: Instalado diretamente nos pontos de uso (POU) das ferramentas para remover a contaminação por partículas submicrométricas dos gases críticos dos processos de deposição, corrosão e fotolitografia.

❖ Armários para gases de ultra-alta pureza (UHP): Integrados em manifolds de distribuição de gases a granel, painéis de purga e armários para gases que lidam com gases altamente reativos, corrosivos ou tóxicos.

❖ Isolamento de Instrumentação em Salas Limpas: Proteção de controladores de fluxo de massa (MFCs) de alta precisão, reguladores de pressão e instrumentos analíticos de detecção de partículas provenientes de fluxos de alta pressão.

FS-TSDO-04UNI

F2DO1602

NFBU200-S05 S2

9907-018

FS-IOBUS-CPIO

F8650X

NFCCC01

5438-667

FC-QPP-0001 V1.3

HIMAX X-CPU01

AAI135-H00 S1

5462-916

FC-USI-0001 V1.3

F60CPU03

CP401-10 S1

5464-211

FS-TSGAS-1624

F3 AIO 84 01

NFBU200-S05 S2

5464-334

FS-IOBUS-CPIO

Z7126

NFCP100-S05 S3

5501-380

51305072-600

HIMatrix F35 011 30

PW482-51 S2

8400-016

51196041-100

HIMatrix F35 010 30

ADV551-P50 S2

5437-672