O ASM LVC-414-3 54-107950A15 é um controlador de fluxo de massa de vapor líquido de alta precisão, projetado para integração em equipamentos de processamento de wafers semicondutores, particularmente em clusters de ferramentas de Deposição Química de Vapor (CVD) e Deposição de Camadas Atômicas (ALD). O módulo atua como um subcomponente inteligente que mede e regula com precisão o fluxo de massa exato dos gases de arraste à medida que passam pelos borbulhadores químicos para coletar e distribuir os dopantes precursores na câmara de processamento. Construído com vias de gás internas robustas e de alta pureza, resistentes a produtos químicos, e uma interface de controle analógica/digital, o LVC-414-3 evita a condensação do precursor, mantém proporções de concentração vapor/gás altamente repetíveis e garante a uniformidade do filme e a estabilidade do processo em ambientes críticos de vácuo de salas limpas.

Fonte de alimentação lógica operacional padrão: ±15 V CC

Interface de entrada de comando/ponto de ajuste: 0 a 5 VCC analógica

Interface de monitoramento de fluxo de saída: analógica de 0 a 5 VCC

Temperatura ambiente de operação: 5°C a 50°C

Pressão máxima do sistema: 10 bar

Padrão de integridade de vazamento: ≤ 1 × 10⁻⁹ atm·cc/s Hélio

AnyBus (Gateway)

Tela industrial de baixa frequência

Módulo remoto de entrada/saída (RTU)

Produtos auxiliares relacionados ao controle industrial

Computador Industrial (IPC)

Interface homem-máquina

Controlador Lógico Programável (CLP)

Discos rígidos de baixa capacidade para uso industrial SCSI

6ES7314-1AF11-0AB0

6ES5460-4UA11

25X8164C1L 6

IC693ALG391

6ED1052-1FB00-0BA6

6ES5460-4UA12

IC754VSI12CTD-KJ

IC693MDL753

6SL3210-1KE22-6AP1

6GK7342-5DA03-0XE0

IS210BPPCH1ACA

DS200TCEAG1BTF

6ES7307-1EA00-0AA0

6ES7365-0BA01-0AA0

IS200EPSMG1AED

UMT162-A

6ES7313-6CG04-0AB0

6ES7193-4CB30-0AA0

IC752SPL013

IS200TRPGH1BDE

3TK2824-2BB40

6ES7193-4CE10-0AA0

IC693PWR321AA

IS200TRLYH1BGG

6ES7155-6AU00-0CN0

6ES7350-2AH01-0AE0

IS215VPROH1BE

IS200EPSMG1ADC